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• 010 __ |a 978-7-03-082649-7 |b 精装 |d CNY128.00

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• 200 1_ |a III族氮化物的X射线衍射分析 |A III zu dan hua wu de X she xian yan she fen xi |f 王文樑著

• 210 __ |a 北京 |c 科学出版社 |d 2025

• 215 __ |a 222页 |c 图 (部分彩图) |d 25cm

• 225 2_ |a 半导体科学与技术丛书 |A ban dao ti ke xue yu ji shu cong shu |v 35

• 314 __ |a 王文樑, 华南理工大学材料学院教授、博士生导师, 入选国家万人计划青年拔尖人才、广东省杰青。

• 320 __ |a 有书目

• 330 __ |a 本书以III族氮化物的X射线衍射分析为核心, 系统地阐述了该技术在薄膜表征中的多方面应用。本书共7章, 各章节内容既相互独立又有机联系。第1章概述了III族氮化物薄膜的研究现状、X射线衍射的基本原理及其在该材料体系中的应用背景 ; 第2章深入探讨了X射线衍射在薄膜面内外取向关系分析中的具体应用 ; 第3章重点介绍了原位X射线衍射技术及其在薄膜外延生长实时监测中的应用 ; 第4章详细论述了X射线衍射测定薄膜晶格常数的技术要点, 并对测量误差来源进行了系统分析 ; 第5章全面阐述了X射线衍射在薄膜应力分析中的应用, 包括应力来源、影响因素及优化策略 ; 第6章着重探讨了X射线衍射技术在薄膜缺陷表征中的应用及其误差控制方法 ; 第7章则从单层和多层结构两个维度系统介绍了X射线衍射在薄膜厚度及层数分析中的具体应用。

• 410 _0 |1 2001 |a 半导体科学与技术丛书 |v 35

• 606 0_ |a 氮化物 |A dan hua wu |x X射线衍射分析

• 690 __ |a O657.3 |v 5

• 701 _0 |a 王文樑 |A wang wen liang |4 著

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