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• 200 1_ |a 集成电路先进工艺制造 |A ji cheng dian lu xian jin gong yi zhi zao |f 陆卫, 宋艳汝主编

• 210 __ |a 上海 |c 上海科学技术出版社 |d 2025

• 215 __ |a [16], 436页 |c 图(部分彩图) |d 24cm

• 320 __ |a 有书目 (第427-429页) 和索引

• 330 __ |a 本书从集成电路制造的工艺、设备、厂务三个既相互交叉又各不相同的领域出发，阐述具体的理论与实践应用。内容涵盖了集成电路行业的现状与发展趋势，覆盖了光刻、薄膜沉积、化学机械抛光、离子注入、刻蚀、湿法清洗、键合及量测技术等主流工艺技术，并介绍了步进式光刻机、电子束曝光机等大型高精尖设备的工作原理与应用。书中还介绍了超净室的设计、安全管理及特种气体与化学品处理等先进技术。

• 606 0_ |a 集成电路工艺 |A ji cheng dian lu gong yi

• 690 __ |a TN405 |v 5

• 701 _0 |a 陆卫 |A lu wei |4 主编

• 701 _0 |a 宋艳汝 |A song yan ru |4 主编

• 801 _0 |a CN |b WFKJXY |c 20250822

• 905 __ |a WFKJXY |d TN405/20