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• 200 1_ |a 高k栅介质材料与器件集成 |A gao kshan jie zhi cai liao yu qi jian ji cheng |f 何刚主编

• 210 __ |a 北京 |c 清华大学出版社 |d 2023

• 215 __ |a 272页 |c 图 |d 26cm

• 320 __ |a 有书目

• 330 __ |a 本书旨在向材料及微电子集成相关专业的高年级本科生、研究生及从事材料与器件集成行业的科研人员介绍栅介质材料制备与相关器件集成的专业技术。本书共10章, 包括了集成电路的发展趋势及后摩尔时代的器件挑战。栅介质材料的基本概念及物理知识储备, 栅介质材料的基本制备技术及表征方法; 着重介绍了栅介质材料在不同器件中的集成应用, 如高K与金属栅、场效应晶体管器件、薄膜晶体管器件、存储器件及神经形态器件等。本书包含栅介质材料的基本制备技术, 同时突出了栅介质材料在器件应用中的先进性和前沿性, 反映了后摩尔时代器件集成的最新研究进展,是理论与实践应用的有机结合。

• 333 __ |a 本书可以作为高等院校材料科学与工程、集成电路、微电子及物理等专业的高年级本科生、研究生的教材和参考书, 也可供从事微电子及半导体集成科研人员和工程技术人员参考

• 606 0_ |a 栅介质 |A shan jie zhi |x 介质材料

• 690 __ |a TN303 |v 5

• 701 _0 |a 何刚 |A he gang |4 主编

• 801 _0 |a CN |b WFKJXY |c 20240918

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