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• 010 __ |a 978-7-118-12997-7 |b 精装 |d CNY128.00

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• 200 1_ |a 光学元件磁流变抛光理论与关键技术 |A guang xue yuan jian ci liu bian pao guang li lun yu guan jian ji shu |d = Magnetorheological polishing theory and key technology of optical components |f 石峰, 宋辞著 |z eng

• 210 __ |a 北京 |c 国防工业出版社 |d 2023

• 215 __ |a XX, 292页 |c 图 (部分彩图) |d 24cm

• 300 __ |a 国防科技图书出版基金

• 320 __ |a 有书目 (第266-274页)

• 330 __ |a 本书介绍了光学元件磁流变抛光理论与关键工艺, 尤其重点介绍了离轴非球面光学元件磁流变抛光关键技术。第一章-第六章侧重介绍磁流变抛光的理论和工艺研究, 主要针对高精度光学镜面磁流变抛光过程中的去除函数多参数模型、表面与亚表面质量控制、驻留时间高精度求解与实现、修形工艺优化方法等关键问题进行深入研究和实验验证 ; 第七章-第十二章以离轴非球面光学零件的高精高效制造为需求牵引, 针对离轴非球面磁流变抛光过程中的关键理论和工艺问题开展研究, 旨在实现面形误差和特征量参数双重约束条件下的离轴非球面光学零件的磁流变抛光, 形成基于磁流变抛光技术的加工工艺路线, 从而进一步提高我国离轴非球面光学零件的制造水平。

• 510 1_ |a Magnetorheological polishing theory and key technology of optical components |z eng

• 606 0_ |a 光学元件 |A guang xue yuan jian |x 抛光 |x 研究

• 690 __ |a TH74 |v 5

• 701 _0 |a 石峰 |A shi feng |4 著

• 701 _0 |a 宋辞 |A song ci |4 著

• 801 _0 |a CN |b WFKJXY |c 20240714

• 905 __ |a WFKJXY |d TH74/6