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• 010 __ |a 978-7-122-43800-3 |b 精装 |d CNY198.00

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• 200 1_ |a 光刻胶材料评测技术 |A guang ke jiao cai liao ping ce ji shu |e 从酚醛树脂光刻胶到最新的EUV光刻胶 |f (日) 关口淳著 |d = フォトレジスト材料の評価 |e ノボラックレジストから最新EUVレジストまで |f 関口淳 |g 方书农译 |z jpn

• 210 __ |a 北京 |c 化学工业出版社 |d 2024

• 215 __ |a 254页 |c 图 (部分彩图) |d 27cm

• 306 __ |a 由サイエンス&テクノロジ一株式会社授权出版

• 314 __ |a 关口淳, 1983年毕业于芝浦工业大学工学部应用化学系。进入日本化学科技公司, 在其分析研究所工作。1985年加入住友GCA公司。负责光刻胶涂覆和显影装置的工艺开发。此后, 负责光刻胶显影分析仪和光刻模拟软件的开发。1993年, 参与了LTJ公司的成立, 任执行董事, 负责光刻胶模拟软件、显影分析仪、虚拟光刻评估系统 (VLES)、纳米压印评估设备等的开发。现任纳米科学研究所所长。

• 320 __ |a 有书目

• 330 __ |a 光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一, 在模拟半导体、发光二极管、微机电系统、太阳能光伏、微流道和生物芯片、光电子器件/光子器件中都有重要的应用。本书从光刻技术基础知识出发, 系统介绍了多种类型光刻胶应用工艺、评测技术。具体包括光刻胶涂布、曝光工艺、曝光后烘烤和显影技术, 以及g线和i线光刻胶、KrF和ArF光刻胶、ArF浸没式光刻胶、EUV光刻胶等的特征、应用工艺及评测技术, 希望对国内的研究人员有很好的启发和指导意义。

• 500 10 |a フォトレジスト材料の評価 : ノボラックレジストから最新EUVレジストまで |A フォトレジストcai Liaoのping Si :ノボラックレジストからzui Xin Euvレジストまで |m Chinese

• 517 1_ |a 从酚醛树脂光刻胶到最新的EUV光刻胶 |A cong fen quan shu zhi guang ke jiao dao zui xin de EUVguang ke jiao

• 606 0_ |a 光致抗蚀剂 |A guang zhi kang shi ji

• 690 __ |a TQ572.4 |v 5

• 701 _0 |a 关口淳 |A guan kou chun |4 著

• 702 _0 |a 方书农 |A fang shu nong |4 译

• 801 _0 |a CN |b WFKJXY |c 20250904

• 905 __ |a WFKJXY |d TQ572.4/1