机读格式显示(MARC)
- 000 01088nam0 2200265 450
- 010 __ |a 978-7-122-43290-2 |d CNY99.00
- 100 __ |a 20230825d2023 em y0chiy50 ea
- 200 1_ |a 图说集成电路制造工艺 |A tu shuo ji cheng dian lu zhi zao gong yi |f 孙洪文编著
- 210 __ |a 北京 |c 化学工业出版社 |d 2023
- 215 __ |a 271页 |c 彩图 |d 24cm
- 300 __ |a 全彩图解 4大类10余种芯片制程核心工艺
- 330 __ |a 本书通过彩色图解的形式,结台轻松有趣的解读方式,详细介绍了集成电路芯片制造工艺的相关知识,内容包括:基础知识、行业现状、半导体材料与设备、集成电路工艺概述、氧化、沉积、外延、扩散、离子注入、硅片清洗、刻蚀、抛光、高温工艺、退火、深紫外光刻、极紫外光刻、下一代光刻技术以及未来的集成电路工艺等。
- 517 1_ |a 集成电路制造工艺 |A ji cheng dian lu zhi zao gong yi
- 606 0_ |a 集成电路工艺 |A ji cheng dian lu gong yi |j 图解
- 701 _0 |a 孙洪文 |A sun hong wen |4 编著
- 801 _0 |a CN |b WFKJXY |c 20240715
- 905 __ |a WFKJXY |d TN405/11