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中文图书1.光刻技术 TN305.7/3
馆藏复本:1
可借复本:1 林本坚著
化学工业出版社 2024
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中文图书2.半导体微缩图形化与下一代光刻技术精讲
馆藏复本:0
可借复本:0 (日) 冈崎信次主编
机械工业出版社 2025
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中文图书3.集成电路与等离子体装备 TN4/21
馆藏复本:1
可借复本:1 赵晋荣等编
科学出版社 2024
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中文图书4.半导体干法刻蚀技术 TN305.7/2
馆藏复本:3
可借复本:3 (日) 野尻一男著
机械工业出版社 2024
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中文图书5.半导体干法刻蚀技术:原子层工艺 TN305.7/1
馆藏复本:2
可借复本:2 (美) 索斯藤·莱尔著
机械工业出版社 2023
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中文图书6.等离子体刻蚀工艺及设备 TN305/4
馆藏复本:2
可借复本:2 主编赵晋荣
电子工业出版社 2023
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