MARC状态：已编 文献类型：中文图书 浏览次数：4
- 题名/责任者:
- 微纳集成电路制造工艺/主编戴显英
- 出版发行项:
- 北京:高等教育出版社,2025
- ISBN及定价:
- 978-7-04-064038-0/CNY46.00
- 载体形态项:
- 270页:图;26cm
- 个人责任者:
- 戴显英, 1961- 主编
- 学科主题:
- 集成电路工艺-高等教育-教材
- 中图法分类号:
- TN405
- 责任者附注:
- 戴显英, 1961年7月出生, 四川成都人, 工学博士, 西安电子科技大学集成电路学部教授、博士生导师、微电子科学与工程专业负责人, 长期从事硅基半导体应变理论与技术研究。
- 提要文摘附注:
- 本书共五篇23章, 第一篇介绍集成电路制造器件基础, 包括MOSFET器件、功率器件、逻辑芯片和存储芯片 ; 第二篇介绍集成电路制造工艺设计基础, 包括工艺设计套件、光刻版技术、光学邻近修正 (OPC)、集成电路工艺及器件仿真工具TCAD ; 第三篇介绍集成电路制造基本工艺, 包括光刻工艺、刻蚀工艺、薄膜工艺、掺杂工艺、清洗工艺与化学机械研磨 ; 第四篇介绍集成电路制造工艺集成技术, 包括阱工艺、浅槽隔离工艺、栅极工艺、源漏工艺、金属硅化物工艺、接触孔/通孔工艺和金属互连工艺 ; 第五篇介绍集成电路制造后端工艺, 包括晶圆测试、封装技术、品质认证及智慧制造。
- 使用对象附注:
- 集成电路新兴领域“十四五”高等教育教材
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| TN405/22 | Z020518 |  自然科学书库-四楼西北
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可借 | 自然科学书库-四楼西北 |
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