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题名/责任者:

光刻胶材料评测技术:从酚醛树脂光刻胶到最新的EUV光刻胶/(日) 关口淳著 方书农译

出版发行项:

北京:化学工业出版社,2024

ISBN及定价:

978-7-122-43800-3 精装/CNY198.00

载体形态项:

254页:图 (部分彩图);27cm

统一题名:

フォトレジスト材料の評価 : ノボラックレジストから最新EUVレジストまで

其它题名:

从酚醛树脂光刻胶到最新的EUV光刻胶

个人责任者:

关口淳 著

个人次要责任者:

方书农 译

学科主题:

光致抗蚀剂

中图法分类号:

TQ572.4

出版发行附注:

由サイエンス&テクノロジ一株式会社授权出版

责任者附注:

关口淳, 1983年毕业于芝浦工业大学工学部应用化学系。进入日本化学科技公司, 在其分析研究所工作。1985年加入住友GCA公司。负责光刻胶涂覆和显影装置的工艺开发。此后, 负责光刻胶显影分析仪和光刻模拟软件的开发。1993年, 参与了LTJ公司的成立, 任执行董事, 负责光刻胶模拟软件、显影分析仪、虚拟光刻评估系统 (VLES)、纳米压印评估设备等的开发。现任纳米科学研究所所长。

书目附注:

有书目

提要文摘附注:

光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一, 在模拟半导体、发光二极管、微机电系统、太阳能光伏、微流道和生物芯片、光电子器件/光子器件中都有重要的应用。本书从光刻技术基础知识出发, 系统介绍了多种类型光刻胶应用工艺、评测技术。具体包括光刻胶涂布、曝光工艺、曝光后烘烤和显影技术, 以及g线和i线光刻胶、KrF和ArF光刻胶、ArF浸没式光刻胶、EUV光刻胶等的特征、应用工艺及评测技术, 希望对国内的研究人员有很好的启发和指导意义。

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