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题名/责任者:

III族氮化物的X射线衍射分析/王文樑著

出版发行项:

北京:科学出版社,2025

ISBN及定价:

978-7-03-082649-7 精装/CNY128.00

载体形态项:

222页:图 (部分彩图);25cm

丛编项:

半导体科学与技术丛书;35

个人责任者:

王文樑 著

学科主题:

氮化物-X射线衍射分析

中图法分类号:

O657.3

责任者附注:

王文樑, 华南理工大学材料学院教授、博士生导师, 入选国家万人计划青年拔尖人才、广东省杰青。

书目附注:

有书目

提要文摘附注:

本书以III族氮化物的X射线衍射分析为核心, 系统地阐述了该技术在薄膜表征中的多方面应用。本书共7章, 各章节内容既相互独立又有机联系。第1章概述了III族氮化物薄膜的研究现状、X射线衍射的基本原理及其在该材料体系中的应用背景 ; 第2章深入探讨了X射线衍射在薄膜面内外取向关系分析中的具体应用 ; 第3章重点介绍了原位X射线衍射技术及其在薄膜外延生长实时监测中的应用 ; 第4章详细论述了X射线衍射测定薄膜晶格常数的技术要点, 并对测量误差来源进行了系统分析 ; 第5章全面阐述了X射线衍射在薄膜应力分析中的应用, 包括应力来源、影响因素及优化策略 ; 第6章着重探讨了X射线衍射技术在薄膜缺陷表征中的应用及其误差控制方法 ; 第7章则从单层和多层结构两个维度系统介绍了X射线衍射在薄膜厚度及层数分析中的具体应用。

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