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题名/责任者:

折射衍射微光学结构的单步光刻与湿法蚀刻原理与应用/张新宇, 谢长生著

出版发行项:

北京:国防工业出版社,2021

ISBN及定价:

978-7-118-12284-8 精装/CNY169.00

载体形态项:

211页:图;25cm

丛编项:

现代微纳米光电成像探测技术丛书

个人责任者:

张新宇 著

个人责任者:

谢长生 著

学科主题:

刻蚀-研究

中图法分类号:

TN405.98

书目附注:

有书目 (第209-211页)

提要文摘附注:

本书主要针对可见光、红外和太赫兹等谱域的折射与衍射微光学结构, 开展新的设计、工艺制作和测试评估方法的研究。重点论述了以折射和衍射微光学积分变换为基础, 有效出射可见光、红外及太赫兹多谱图像与波前的基础理论和基本方法, 建立了基于衍射相位精细构建在设计、仿真、工艺、测试与评估等方面的数据和方法体系。

使用对象附注:

本书适合从事微纳制造、微纳光学光电器件、光学图像信息处理等领域的科研人员阅读, 也可作为高等院校师生的教学参考用书

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