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题名/责任者:

高比表面积碳化硅/郭向云编著

出版发行项:

北京:化学工业出版社,2020

ISBN及定价:

978-7-122-34920-0 精装/CNY98.00

载体形态项:

169页:图;25cm

并列正题名:

High specific surface area silicon carbide

个人责任者:

郭向云 编著

学科主题:

碳化硅纤维-材料制备

中图法分类号:

TQ343

书目附注:

有书目

提要文摘附注:

高比表面积碳化硅是最近十几年来逐渐引起人们重视的一种新材料, 具有堆积密度低 (约0.2g/cm3)、比表面积大 (>30m2/g) 的特性, 是一种性能优异的载体材料。本书系统地介绍了高比表面积碳化硅的制备方法, 以及高比表面积碳化硅作为载体材料在多相催化、光催化和电催化等领域应用的研究进展。为了让读者更全面地了解高比表面积碳化硅材料, 对其在电磁波吸收领域的应用情况也作了一些简单介绍。

使用对象附注:

本书适合从事多相催化、光催化和电催化研究的科研人员, 以及高等院校相关专业的师生阅读

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