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MARC状态:审校 文献类型:西文图书 浏览次数:7

题名/责任者:
Design for manufacturability with advanced lithography / Bei Yu, David Z. Pan.
出版发行项:
Cham : Springer, 2015.
ISBN:
9783319203843 (hbk.)
载体形态项:
xi, 164 pages : illustrations ; 24 cm
个人责任者:
Yu, Bei, author.
附加个人名称:
Pan, David Z., author.
论题主题:
Electronic circuit design.
论题主题:
Lithography.
中图法分类号:
TN702
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态 还书位置
TN702/X1 X001303   经济类书库-外文图书418     可借 经济类书库-外文图书418
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