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- 题名/责任者:
- 等离子体合成射流流动控制/宗豪华, 吴云, 李金平著
- 出版发行项:
- 北京:科学出版社,2025
- ISBN及定价:
- 978-7-03-081639-9/CNY130.00
- 载体形态项:
- xiv, 222页;24cm
- 学科主题:
- 等离子体射流
- 中图法分类号:
- O53
- 提要文摘附注:
- 本书从激励特性、理论模型和典型应用三个方面介绍了作者团队近十年来在等离子体合成射流流动控制方面的研究成果。首先, 从航空航天飞行器性能提升的需求出发, 引出了等离子体合成射流激励器, 结合PIV、高速纹影等测量手段对等离子体合成射流的形成和演化过程进行了诊断, 获得了涡、波、高速射流等主要流动特征随着放电参数、几何参数和环境参数的无量纲变化规律; 其次, 为了解决激励器工作频率受限、能量转化效率低下的问题, 分别建立了重频解析理论工作模型和三阶段能量效率模型, 提出了一系列用于激励器优化设计的理论准则。
- 使用对象附注:
- 本书可为从事流动控制技术研究的教师和研究生提供理论方法和技术参考
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