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题名/责任者:

集成电路先进工艺制造/陆卫, 宋艳汝主编

出版发行项:

上海:上海科学技术出版社,2025

ISBN及定价:

978-7-5478-7044-0/CNY178.00

载体形态项:

[16], 436页:图(部分彩图);24cm

个人责任者:

陆卫 主编

个人责任者:

宋艳汝 主编

学科主题:

集成电路工艺

中图法分类号:

TN405

书目附注:

有书目 (第427-429页) 和索引

提要文摘附注:

本书从集成电路制造的工艺、设备、厂务三个既相互交叉又各不相同的领域出发，阐述具体的理论与实践应用。内容涵盖了集成电路行业的现状与发展趋势，覆盖了光刻、薄膜沉积、化学机械抛光、离子注入、刻蚀、湿法清洗、键合及量测技术等主流工艺技术，并介绍了步进式光刻机、电子束曝光机等大型高精尖设备的工作原理与应用。书中还介绍了超净室的设计、安全管理及特种气体与化学品处理等先进技术。

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