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题名/责任者:

集成电路工艺PDK技术:基于华大九天设计平台的PDK开发教程/刘军, 陈展飞, 朱能勇编著

出版发行项:

北京:电子工业出版社,2024

ISBN及定价:

978-7-121-48936-5/CNY55.00

载体形态项:

209页:图;26cm

其它题名:

基于华大九天设计平台的PDK开发教程

丛编项:

集成电路系列丛书.电子设计自动化

丛编项:

国产EDA系列

个人责任者:

刘军 编著

个人责任者:

陈展飞 编著

个人责任者:

朱能勇 编著

学科主题:

集成电路工艺

中图法分类号:

TN405

一般附注:

集成电路产业知识赋能工程 电子信息·Ei精品

书目附注:

有书目

提要文摘附注:

本书是在总结工艺设计套件 (Process Design Kit，PDK) 开发经验的基础上编写而成的，主要内容包括PDK的简介、分类、平台介绍、开发基础以及国产自主工具华大九天PDK关键组件的开发方法、器件模型基础和前仿真与后仿真过程、华大九天Aether PDK开发实例和验证方法。

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