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题名/责任者:

氮化镓电子器件热管理/(美) 马尔科·J. 塔德尔, 特拉维斯·J. 安德森主编 来萍 ... [等] 译

出版发行项:

北京:机械工业出版社,2025

ISBN及定价:

978-7-111-76455-7/CNY168.00

载体形态项:

XIV, 415页:彩图;24cm

统一题名:

Thermal management of gallium nitride electronics

丛编项:

先进半导体产业关键技术丛书

个人责任者:

塔德尔 (Tadjer, Marko J.) 主编

个人责任者:

安德森 (Anderson, Travis J.) 主编

个人次要责任者:

来萍 译

学科主题:

氮化镓-电力半导体器件-传热学

中图法分类号:

TN303

一般附注:

机工电子

出版发行附注:

由ELSEVIER LTD.授权出版

责任者附注:

马尔科·J. 塔德尔 (Marko J. Tadjer), 博士, 就职于华盛顿特区美国海军研究实验室。特拉维斯·J. 安德森 (Travis J.Anderson), 博士, 是美国海军研究实验室电力电子部门的负责人, 于2008年获得美国佛罗里达大学化学工程博士学位, 于2004 年获得乔治亚理工学院化学工程学士学位。

书目附注:

有书目

提要文摘附注:

本书具体内容包括宽禁带半导体器件中的热问题、氮化镓 (GaN) 及相关材料的第一性原理热输运建模、多晶金刚石从介观尺度到纳米尺度的热输运、固体界面热输运基本理论、氮化镓界面热导上限的预测和测量、AlGaN/GaN HEMT器件物理与电热建模、氮化镓器件中热特性建模、AlGaN/GaN HEMT器件级建模仿真、基于电学法的热表征技术 —— 栅电阻测温法、超晶格城堡形场效应晶体管的热特性、用于氮化镓器件高分辨率热成像的瞬态热反射率法、热匹配QST衬底技术、用于电子器件散热的低应力纳米金刚石薄膜、金刚石基氮化镓材料及器件技术综述、金刚石与氮化镓的三维集成、基于室温键合形成的高导热半导体界面、AlGaN/GaN器件在金刚石衬底上直接低温键合技术、氮化镓电子器件的微流体冷却技术、氮化镓热管理技术在Ga2O3整流器和MOSFET中的应用。

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