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题名/责任者:

热丝化学气相沉积技术:technology and applications of Cat-CVD/(日) 松村英树 ... [等] 著 黄海宾, 沈鸿烈等译

出版发行项:

北京:化学工业出版社,2024

ISBN及定价:

978-7-122-45663-2 精装/CNY198.00

载体形态项:

345页:图;27cm

统一题名:

Catalytic chemical vapor deposition : technology and applications of Cat-CVD

个人责任者:

松村英树 著

个人责任者:

梅本弘宣 著

个人责任者:

格利森 (Gleason, Karen K.) 著

个人责任者:

施罗普 (Schropp, Ruud E. I.) 著

个人次要责任者:

黄海宾 译

个人次要责任者:

沈鸿烈 译

学科主题:

化学气相沉积

中图法分类号:

TG174.44

题名责任附注:

题名页题其余责任者: 梅本弘宣, 卡伦·格利森, 吕德·施罗普

出版发行附注:

由Wiley授权出版

书目附注:

有书目

提要文摘附注:

本书系统介绍了Cat-CVD技术, 括其基本原理、设备设计及应用。具体括Cat-CVD的物理基础及其与等离子增强化学气相沉积的区别、Cat-CVD中化学反应的分析方法及基本原理、Cat-CVD的物理化学基础、Cat-CVD制备的无机薄膜性能、引发化学气相沉积 (iCVD) 合成有机聚合物、Cat-CVD设备运行中的物理基础与技术、Cat-CVD在太阳电池和各种半导体器件中的应用、Cat-CVD系统中的活性基团及其应用, 后介绍了利用Cat-CVD腔室中产生的活性基团, 在低温下进行半导体掺杂。

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