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题名/责任者:

晶体生长基础与技术/王国富, 李凌云著

出版发行项:

北京:科学出版社,2023

ISBN及定价:

978-7-03-074843-0 精装/CNY128.00

载体形态项:

202页:图;25cm

个人责任者:

王国富, 1949- 著

个人责任者:

李凌云, 1985- 著

学科主题:

晶体生长

中图法分类号:

O78

责任者附注:

王国富, 1949年11月生, 福建福州人, 中国科学院福建物质结构研究所二级研究员, 博士生导师, 原晶体材料研究室主任。李凌云, 1985年2月生, 河南南阳人, 博士, 教授, 博士生导师。

书目附注:

有书目

提要文摘附注:

本书系统介绍了人工晶体生长的基础理论和相图技术, 在此基础上全面介绍了人工晶体生长主流技术如水溶液法、助熔剂法、水热法、焰熔法、提拉法和坩埚下降法等, 详细介绍了上述人工晶体生长技术的基本原理、设备设计与构造、生长工艺以及它们的优缺点等。同时, 作者结合自身多年科研工作成果积累, 选择性介绍了几种重要的光电子晶体材料的生长技术。

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