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题名/责任者:

材料晶体衍射结构表征/陈亮维 ... [等] 编著

出版发行项:

北京:化学工业出版社,2024

ISBN及定价:

978-7-122-44252-9/CNY98.00

载体形态项:

289页:图;26cm

个人责任者:

陈亮维, 1968- 编著

个人责任者:

易健宏, 1965- 编著

个人责任者:

虞澜, 1968- 编著

学科主题:

晶体结构-X射线衍射-研究

中图法分类号:

O76

一般附注:

高等教育材料科学与工程专业教材

题名责任附注:

题名页题: 陈亮维, 易健宏, 虞澜, 史庆南编著

责任者附注:

陈亮维, 男, 1968年5月生, 籍贯湖南双峰, 教授级高工, 博士。1991年6月毕业于中南大学应用物理专业, 2009年12月前在昆明贵金属研究所从事材料晶体结构与性能表征及无损检测工作。2010年1月以后在昆明理工大学承担“材料晶体结构表征”硕士生和博士生课程教学、“无损检测”“量子力学”2门本科生课程教学及大量的实验教学。易健宏, 男, 1965年5月生, 籍贯湖南株洲, 二级教授, 博士, 先后入选新世纪人才计划和云南省高端人才计划。主要从事磁性材料理论与制备、稀贵金属材料与技术、粉末冶金基础理论与材料制备等方面的研究。虞澜, 女, 1968年2月生, 籍贯江苏, 教授博士。1988年毕业于四川大学金属材料专业2004-2008年于德国马普固体物理研究所热电薄膜方向攻读博士学位, 主讲“材料科学基础”(省级双语精品课)、“材料物理”、“稀贵金属材料学”等本科、研究生课程。主要研究领域为热电、光电、磁性等新型功能陶瓷及薄膜的制备和性能研究, 以及原子层热电堆薄膜及器件的研发。

书目附注:

有书目

提要文摘附注:

本书阐述了材料晶体粉末衍射、电子背散行射和透射电子行射基础理论及应用。重点阐述了常见材料织构的理论极图的绘制方法、任意单晶取向下理论背散电子衍射菊池花样、理论透射电子衍射斑点花样的绘制方法及常见织构的理论极图、电子背散衍射菊池花样和透射电子衍射花样, 补充和完善了欧拉空间与织构类型的关系式, 添加了金属材料织构表征应用的实例。本书为表征晶体结构提供了解析方法, 同时为设计粉晶衍射、四元单晶衍射、电子背散衍射和透射电子衍射晶体结构表征智能化分析软件提供了数学模型。

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