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MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:4

题名/责任者:
图说集成电路制造工艺/孙洪文编著
出版发行项:
北京:化学工业出版社,2023
ISBN及定价:
978-7-122-43290-2/CNY99.00
载体形态项:
271页:彩图;24cm
其它题名:
集成电路制造工艺
个人责任者:
孙洪文 编著
学科主题:
集成电路工艺-图解
中图法分类号:
TN405
一般附注:
全彩图解 4大类10余种芯片制程核心工艺
书目附注:
有书目
提要文摘附注:
本书通过彩色图解的形式,结台轻松有趣的解读方式,详细介绍了集成电路芯片制造工艺的相关知识,内容包括:基础知识、行业现状、半导体材料与设备、集成电路工艺概述、氧化、沉积、外延、扩散、离子注入、硅片清洗、刻蚀、抛光、高温工艺、退火、深紫外光刻、极紫外光刻、下一代光刻技术以及未来的集成电路工艺等。
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态 还书位置
TN405/11 2249188   自然科学书库-四楼西北     可借 自然科学书库-四楼西北
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