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题名/责任者:

微电子制造科学原理与工程技术/(美)Stephen A. Campbell著 严利人，梁仁荣译

版本说明:

2版

出版发行项:

北京:电子工业出版社,2023

ISBN及定价:

978-7-121-44746-4/CNY159.00

载体形态项:

11,595页:图，照片;26cm

并列正题名:

Fabrication engineering at the micro- and nanoscale

个人责任者:

坎贝尔 (Campbell, Stephen A.) 著

个人次要责任者:

严利人 译

个人次要责任者:

梁仁荣 译

学科主题:

微电子技术-生产工艺

中图法分类号:

TN405

版本附注:

据原书第4版译出 美国Oxford University Press授权出版

提要文摘附注:

本书对微纳制造技术的各个领域进行了介绍，覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺，包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等。对每一种单项工艺，不仅介绍了它的物理和化学原理，还描述了用于集成电路制造的工艺设备。

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