MARC状态：已编 文献类型：中文图书 浏览次数：18
- 题名/责任者:
- 计算光刻与版图优化/韦亚一 ... [等] 著
- 出版发行项:
- 北京:电子工业出版社,2021
- ISBN及定价:
- 978-7-121-40226-5/CNY79.00
- 载体形态项:
- X, 238页:图;26cm
- 丛编项:
- 集成电路技术丛书
- 丛编项:
- 中国科学院大学研究生教学辅导书系列
- 个人责任者:
- 韦亚一 著
- 学科主题:
- 集成电路工艺-电子束光刻-研究生-教材
- 中图法分类号:
- TN405.98
- 题名责任附注:
- 题名页题其余责任者: 粟雅娟, 董立松, 陈利斌, 陈睿, 赵利俊
- 相关题名附注:
- 英文题名取自封面
- 书目附注:
- 有书目
- 提要文摘附注:
- 本书共7章, 首先对集成电路设计与制造的流程做简要介绍, 接着介绍集成电路物理设计 (版图设计) 的全流程, 然后介绍光刻模型、分辨率增强技术、刻蚀效应修正、可制造性设计, 最后介绍设计与工艺协同优化。
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| TN405.98/1 | 1845758 |  自然科学书库-四楼西北
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可借 | 自然科学书库-四楼西北 | |
| TN405.98/1 | 1845759 | 自然科学书库-四楼西北
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可借 | 自然科学书库-四楼西北 | |
| TN405.98/1 | 1845760 | 自然科学书库-四楼西北
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可借 | 自然科学书库-四楼西北 |
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