MARC状态：已编 文献类型：中文图书 浏览次数：17
- 题名/责任者:
- 最好的UI设计师:每一次思考, 都是对自己更好的完善/颜伟著
- 出版发行项:
- 北京:电子工业出版社,2018
- ISBN及定价:
- 978-7-121-33641-6/CNY79.00
- 载体形态项:
- 210页:彩图;24cm
- 其它题名:
- 每一次思考, 都是对自己更好的完善
- 个人责任者:
- 颜伟 著
- 学科主题:
- 人机界面-程序设计
- 中图法分类号:
- TP311.1
- 书目附注:
- 有书目
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| TP311.1/73 | 1646714 |  自然科学书库-四楼西北
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可借 | 自然科学书库-四楼西北 | |
| TP311.1/73 | 1646715 | 自然科学书库-四楼西北
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可借 | 自然科学书库-四楼西北 |
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